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中晶科技 持續(xù)創(chuàng)新再獲一項發(fā)明專利
Date：2023/7/19 瀏覽人數(shù)：726
中晶科技 持續(xù)創(chuàng)新再獲一項發(fā)明專利
近日，中晶科技又一項發(fā)明專利獲得國家知識產(chǎn)權(quán)局授權(quán)。此項發(fā)明專利名稱為：“一種圖形化藍(lán)寶石襯底的光刻方法”，發(fā)文序號為：2023062800321690。該項專利是公司今年以來獲得的第二項發(fā)明專利授權(quán)。
圖為 專利授權(quán)通知書
該發(fā)明涉及光刻工藝提升變革技術(shù)領(lǐng)域，該方法在光刻工段的成功應(yīng)用，使得生產(chǎn)產(chǎn)品的光刻速率顯著提升，輔材用量明顯下降，在實現(xiàn)節(jié)材降耗的基礎(chǔ)上有效提升了產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性。
近年來，公司始終把自主創(chuàng)新視為企業(yè)發(fā)展壯大的關(guān)鍵，不斷推陳出新。公司現(xiàn)有專利授權(quán)37項，其中發(fā)明專利授權(quán)7項，知識產(chǎn)權(quán)質(zhì)量不斷提升。
后續(xù)，中晶科技將繼續(xù)大力推進(jìn)技術(shù)研發(fā)，進(jìn)一步豐富企業(yè)知識產(chǎn)權(quán)矩陣，提升公司核心競爭力。
